На главную

Китайский институт создал транзисторы GAA для чипов тоньше 3 нм на DUV-литографии

1 мин
Китайский институт создал транзисторы GAA для чипов тоньше 3 нм на DUV-литографии

Материал подготовлен искусственным интеллектом на основе нескольких источников — ссылки на оригиналы приведены ниже.

Институт микроэлектроники Китайской академии наук завершил предварительную интеграцию КМОП-транзисторов GAA со стековыми нанолистовыми каналами с использованием DUV-литографии. Работа стала шагом к производству чипов тоньше 3 нм без EUV-оборудования ASML, поставки которого заблокированы экспортными ограничениями США.

Ключевые факты

  • Институт микроэлектроники Китайской академии наук завершил предварительную интеграцию КМОП-транзисторов GAA со стековыми нанолистовыми каналами с использованием DUV-литографии.
  • Достижение охарактеризовано как новый технологический маршрут раннего этапа разработки МОП-транзисторов для передового производства чипов по нормам менее 3 нм в Китае.
  • ASML запрещено поставлять китайским клиентам новейшие EUV-установки в соответствии с действующими правилами экспортного контроля.

Прорыв в DUV-литографии

Е Тяньчунь, эксперт Института микроэлектроники Китайской академии наук, сообщил о предварительной интеграции КМОП-транзисторов GAA со стековыми нанолистовыми каналами с использованием оборудования для DUV-литографии. Институт определил предварительный путь разработки полупроводниковых устройств с архитектурой GAA с использованием менее передовой технологии глубокой ультрафиолетовой литографии, согласно тайваньским СМИ, ссылающимся на Е Тяньчуня. Результат охарактеризован как новый технологический маршрут раннего этапа разработки МОП-транзисторов для передового производства чипов по нормам менее 3 нм в Китае.

Контекст экспортного контроля

Нидерландской компании ASML запрещено поставлять китайским клиентам новейшие EUV-установки в соответствии с действующими правилами экспортного контроля. EUV-оборудование необходимо для производства чипов по техпроцессу тоньше 7 нанометров. Прорыв стал шагом к цели Пекина по созданию альтернативного метода развития передовых технологий производства чипов в условиях экспортных ограничений со стороны Вашингтона.

1 источник

Время · отставание